用途概況：
高真空晶體爐采用感應(yīng)加熱、電阻加熱方式，可用銥金、鉑金、石墨、鉬等坩堝。
主要用途和適用范圍：
可以生長氧化物晶體（如YAG:Nd、Al2O3、TeO2、LiTaO3、LiNbO3等），是科研院所、企事業(yè)單位新晶體材料的提拉法、下降法、泡生法、溫梯法生長性能研究和生產(chǎn)的優(yōu)良可靠設(shè)備。
主要功能與特點：
1.高精度絲杠、高質(zhì)量電機使得傳動系統(tǒng)更加精確和穩(wěn)定。
2.模塊化電路設(shè)計，控制電路更加穩(wěn)定、可靠、易于維護(hù)。
3.高精度重量傳感器保證了出色的自動直徑控制性能。
4.全電腦控制，晶體外形控制更出色、更少人工監(jiān)測。
5.關(guān)鍵參數(shù)實時呈現(xiàn)，晶體生長過程一目了然。
6.緊急情況自動處理，為設(shè)備和坩堝提供一定的安全保障。
技術(shù)參數(shù)：
1.原理加熱采用感應(yīng)加熱方式，坩堝在石英管內(nèi)，封裝在外殼內(nèi)。分子泵外置。
2.石英桶 80*90*400用于放置坩堝保溫材料。
3.中頻功率15KW，2.5kHz
4.真空5*10-3PA冷爐極限真空
5.慢速提拉0.1-10mm/h
6.快速提拉10-70mm/min
7.旋轉(zhuǎn)速度0.1-50r/min
8.坩堝35*35，可加熱至1600度材質(zhì)Pt，
9.下部密封與石英桶密封，循環(huán)水強制冷卻。抽真空接口，充氣口。
10.上部密封與石英桶密封，循環(huán)水強制冷卻，與上提拉波紋管接口
11.旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)電機，旋轉(zhuǎn)密封磁流體
12.提拉機構(gòu)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝上提拉機構(gòu)移動塊上。提拉機構(gòu)包括，步進(jìn)電機，減速機，滾珠絲杠、導(dǎo)軌，立柱和立柱旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。
13.HMI用于設(shè)定升降問程序，運行，停止、暫停，中頻啟停。升降控制包括，慢升，慢降，快升和快降及速度大小。（快升為手按住升或?qū)?，松開停止）旋轉(zhuǎn)控制包括：正轉(zhuǎn)，反轉(zhuǎn)，停止，速度大小。
14.指示燈三色，紅、黃、綠，用于故障報警。
15.為控制柜包括溫度控制，運動控制電器等安裝參數(shù)。
注：可根據(jù)要求定制爐膛尺寸，其他特殊要求訂貨時請說明。
